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Comunidade pode opinar sobre novo Regulamento Disciplinar Discente

  • Publicado: Quarta, 05 de Fevereiro de 2025, 11h52
  • Última atualização em Segunda, 10 de Fevereiro de 2025, 16h03

Por meio de Consulta pública, toda a comunidade acadêmica do IFMG é convidada a contribuir, até 23 de fevereiro, para construção do novo regulamento

O IFMG está promovendo uma consulta pública para revisar e reformular seu o Regulamento Disciplinar Discente da instituição. Estudantes, servidores e a comunidade externa estão convidados a contribuir para essa revisão, oferecendo sugestões, críticas e propostas de melhoria para o documento, com o objetivo de torná-lo mais alinhado às necessidades de todos os envolvidos. A consulta é conduzida por um grupo de trabalho, com apoio da Pró-Reitoria de Ensino (Proen).

A participação é simples e pode ser feita de forma anônima ou identificada, individualmente ou em grupo. Para isso, basta acessar o formulário da consulta pública e registrar suas contribuições. "Elaboramos o formulário para coletar as impressões e colaborações da comunidade sobre o atual regulamento, estas informações nortearão os debates e a construção do novo texto para a proposta de regimento", explica a presidente do Grupo de Trabalho, Ludmila Nogueira Murta. 

A consulta pública estará aberta até o dia 23 de fevereiro de 2025. Não perca a oportunidade de influenciar o futuro do regulamento disciplinar do IFMG.

CLIQUE AQUI para preencher o formulário
ACESSE o atual Regulamento Disciplinar Discente

O que pode ser sugerido

• Aspectos do regulamento atual que devem ser mantidos;
• Dificuldades ou lacunas identificadas;
• Propostas de melhorias ou novos procedimentos;
• Sugestões baseadas em práticas de outras instituições.

Por que participar: Sua contribuição é importante para garantir que o novo regulamento seja representativo, democrático e eficiente, atendendo de forma mais precisa às necessidades da comunidade acadêmica.

Em caso de dúvidas, entre em contato com a Presidência do Grupo de Trabalho pelo e-mail: r.

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